ETUDE DE LA FORMATION DU SILICIURE DE NICKEL …
Etude de la formation du siliciure de nickel-platine intégré dans la fabrication de transistors CMOS pour les technologies 65 et 45 nm Directeur de thèse : Olivier THOMAS Co-encadrant : Stéphane ZOLL JURY M. Roland MADAR, Président M. Christian LAVOIE, Rapporteur M. Jean-Claude DUPUY, Rapporteur M. Jean-Claude PORTAL, Examinateur